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HLX6256NSH

更新时间： 2024-11-01 03:42:11

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霍尼韦尔 - HONEYWELL		/
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12页	153K
描述
32K x 8 STATIC RAM Low Power SOI

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HLX6256NSH 技术参数

是否无铅：	含铅	是否Rohs认证：	不符合
生命周期：	Active	零件包装代码：	DFP
包装说明：	DFP, FL28,.5	针数：	28
Reach Compliance Code：	unknown	ECCN代码：	3A001.A.2.C
HTS代码：	8542.32.00.41	风险等级：	5.43
最长访问时间：	25 ns	I/O 类型：	COMMON
JESD-30 代码：	R-CDFP-F28	JESD-609代码：	e0
长度：	18.288 mm	内存密度：	262144 bit
内存集成电路类型：	STANDARD SRAM	内存宽度：	8
功能数量：	1	端口数量：	1
端子数量：	28	字数：	32768 words
字数代码：	32000	工作模式：	ASYNCHRONOUS
最高工作温度：	125 °C	最低工作温度：	-55 °C
组织：	32KX8	输出特性：	3-STATE
可输出：	YES	封装主体材料：	CERAMIC, METAL-SEALED COFIRED
封装代码：	DFP	封装等效代码：	FL28,.5
封装形状：	RECTANGULAR	封装形式：	FLATPACK
并行/串行：	PARALLEL	峰值回流温度（摄氏度）：	NOT SPECIFIED
电源：	3.3 V	认证状态：	Not Qualified
筛选级别：	38535V;38534K;883S	座面最大高度：	3.048 mm
最大待机电流：	0.0003 A	最小待机电流：	1.7 V
子类别：	SRAMs	最大压摆率：	0.003 mA
最大供电电压 (Vsup)：	3.6 V	最小供电电压 (Vsup)：	3 V
标称供电电压 (Vsup)：	3.3 V	表面贴装：	YES
技术：	CMOS	温度等级：	MILITARY
端子面层：	Tin/Lead (Sn/Pb)	端子形式：	FLAT
端子节距：	1.27 mm	端子位置：	DUAL
处于峰值回流温度下的最长时间：	NOT SPECIFIED	总剂量：	1M Rad(Si) V
宽度：	12.7 mm	Base Number Matches：	1

HLX6256NSH 数据手册

Military & Space Products

32K x 8 STATIC RAM—Low Power SOI

HLX6256

FEATURES

RADIATION

OTHER

• Fabricated with RICMOS^™IV Silicon on Insulator (SOI)

0.55 µm Low Power Process

• Read/Write Cycle Times

≤ 17 ns (Typical)

≤ 25 ns (-55 to 125°C)

• Total Dose Hardness through 1x10⁶rad(SiO₂)

• Neutron Hardness through 1x10¹⁴cm^-2

• Typical Operating Power <10 mW/MHz

• Asynchronous Operation

• Dynamic and Static Transient Upset Hardness

through 1x10⁹rad(Si)/s

• JEDEC Standard Low Voltage

CMOS Compatible I/O

• Dose Rate Survivability through 1x10¹¹rad(Si)/s

• Soft Error Rate of <1x10^-10upsets/bit-day

• Latchup Free

• Single 3.3 V 0.3V Power Supply

• Packaging Options

- 28-Lead Flat Pack (0.500 in. x 0.720 in.)

- 28-Lead DIP, MIL-STD-1835, CDIP2-T28

- 36-Lead Flat Pack (0.630 in. x 0.650 in.)

- Various Multi-Chip Module (MCM) Configurations

GENERAL DESCRIPTION

The 32K x 8 Radiation Hardened Static RAM is a high

performance 32,768 word x 8-bit static random access

memory with industry-standard functionality. It is fabri-

cated with Honeywell’s radiation hardened technology,

and is designed for use in low voltage systems operating in

radiation environments. The RAM operates over the full

military temperature range and requires only a single 3.3 V

0.3V power supply. The RAM is compatible with JEDEC

standard low voltage CMOS I/O. Power consumption is

typically less than 10 mW/MHz in operation, and less than

2 mW when de-selected. The RAM read operation is fully

asynchronous,withanassociatedtypicalaccesstimeof14

ns at 3.3 V.

Honeywell’senhancedSOIRICMOS^™IV(RadiationInsen-

sitiveCMOS)technologyisradiationhardenedthroughthe

use of advanced and proprietary design, layout and pro-

cess hardening techniques. The RICMOS^™IV low power

process is a SIMOX CMOS technology with a 150 Å gate

oxideandaminimumdrawnfeaturesizeof0.7µm(0.55µm

effective gate length—L_eff). Additional features include

tungsten via plugs, Honeywell’s proprietary SHARP pla-

narization process and a lightly doped drain (LDD) struc-

ture for improved short channel reliability. A 7 transistor

(7T) memory cell is used for superior single event upset

hardening, while three layer metal power bussing and the

low collection volume SIMOX substrate provide improved

dose rate hardening.

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