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| 型号 | 品牌 | 获取价格 | 描述 | 数据表 |
| LMK83S018H2 | ETC |
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LMM83S018C2N |
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| LMK83S018H2N | ETC |
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LMM83S018C2N |
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| LMK83S018HN | ETC |
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LMM83S018C2N |
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| LMKAK10 | LEIDITECH |
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Ideal for automated placement |
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| LMKAK1058CA | LEIDITECH |
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Ideal for automated placement |
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| LMKAK1066CA | LEIDITECH |
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Ideal for automated placement |
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| LMKAK1076CA | LEIDITECH |
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Ideal for automated placement |
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| LMKAK1086CA | LEIDITECH |
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Ideal for automated placement |
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| LMKC5101ALA | NICHICON |
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CAPACITOR, ALUMINUM ELECTROLYTIC, NON SOLID, POLARIZED, 140V, 100uF, CHASSIS MOUNT |
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| LMKC5251ALA | NICHICON |
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CAPACITOR, ALUMINUM ELECTROLYTIC, NON SOLID, POLARIZED, 140V, 250uF, CHASSIS MOUNT |
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解析光耦仿真器：升级光耦合器技术的必要性
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台积电5nm和3nm产能利用率达100%，半导体行业景气度持续攀升
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